P786
| カルレッツ®のラインアップ |
291 |
 |
| 8002 |
硬さ(ショアA) |
69* |
4079 |
硬さ(ショアA) |
75 |
8475 |
硬さ(ショアA) |
72** |
| 耐熱目安(℃) |
250 |
耐熱目安(℃) |
316 |
耐熱目安(℃) |
300 |
 |
 |
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| 充填材を一切含まず、プラズマ照射時にパーティクルの発生がほとんどない材質。耐熱性にも優れている。あらゆる種類のプラズマに対して、耐プラズマ性および、耐熱性に優れた材質。 |
強酸、有機酸を含む一般耐薬品性に優れたカルレッツの標準材質。高温使用時における圧縮永久歪みが最も優れる。アミノ類には要注意。熱サイクルでの使用は280℃が望ましい。 |
耐熱性、低放出ガス特性に優れた材質。拡散炉、LD-CVD等の耐熱用途に実績がある。 |
| 8575 |
硬さ(ショアA) |
74** |
8085 |
硬さ(ショアA) |
82 |
1050LF |
硬さ(ショアA) |
82 |
| 耐熱目安(℃) |
280 |
耐熱目安(℃) |
225 |
耐熱目安(℃) |
288 |
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| 耐プラズマ性に優れており、カルレッツ白色材質の中でプラズマエッチング等に最も実績がある材質 |
HDP-CVP、PE CVDのアプリケーション用に開発されたカルレッツ材質。特にNF3プラズマの環境下でのパーティクルを低減できる材質。機械特性に優れているため、スリットバルブ、ゲートバルブ等にも最適。 |
アミン類に対して最適の材質で一般的な耐薬品性に優れている。200℃以上の熱水/水蒸気の雰囲気には注意。高温時の放出ガスが最も少ない。 |
| 4001 |
硬さ(ショアA) |
56 |
6375UP |
硬さ(ショアA) |
75 |
| 耐熱目安(℃) |
270 |
耐熱目安(℃) |
275 |
 |
 |
| 充填材を含んでいない材質であり、硬度が最も低く、オゾンなど酸化性雰囲気に対しての最適材質 |
幅広い腐食性流体に対して耐薬品性が優れた材質。抽出物が非常に少なく、ウェット用途に適している。 |
*JIS6253のスラブによるテスト
**AS568A、2140リングによるテスト
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| カルレッツ®の物理的特性 |
|
4079 |
1050LF |
4001 |
6375UP |
8002 |
8085 |
8475 |
8575 |
| 引張強さ(1) |
MPa |
16.9 |
18.6 |
9.1 |
15.1 |
16.0*** |
16.3 |
14.4 |
12.0 |
| kgf/cm² |
172 |
189 |
92 |
154 |
163 |
|
147 |
122 |
| 100%モジュラス(1) |
MPa |
7.3 |
12.4 |
1.5 |
7.2 |
2.9** |
7.5 |
2.2 |
2.5 |
| kgf/cm² |
74 |
127 |
15 |
73.4 |
29.6 |
|
22.4 |
25.5 |
| 破断時の伸び ％ |
150 |
125 |
235 |
160 |
246 |
159 |
227 |
230☆ |
| 硬度 デュロメーター A±5 |
75 |
82 |
56 |
75 |
69** |
82 |
72* |
74* |
| 圧縮永久歪み(2) ％ |
22 |
30 |
- |
30 |
15* |
42 |
23* |
16 |
| 常温で70時間 |
| 204℃で70時間 |
25 |
35 |
18 |
|
|
|
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|
(1)ASTM D412,500mm/min．(2)ASTM D395Bpellets
*AS-2140リング
**JIS6253のスラブによるテスト
***JIS625ダンベルテスト
☆ASTM D412ダンベル202/m²
| 比重 |
1.9〜2.0 |
熱伝導率 |
50℃ 0.19W/m･k |
摩擦係数
(カルレッツ®
対スチール) |
0.25〜0.60(グレードで異なる) |
100℃ 0.19W/m･k |
| 200℃ 0.19W/m･k |
| 300℃ 0.19W/m･k |
| 線膨張係数 |
2.3〜3.6×10-4/℃ |
電気特性 |
誘電率 |
1000Hz 4.9 |
| 比熱 |
50℃ 0.226cal/g |
誘電正接 |
1000Hz 5×10-3 |
| 100℃ 0.233cal/g |
体積抵抗率 |
約1014〜1017Ω・cm |
| 150℃ 0.252cal/g |
耐電圧 |
17.7kV/mm以上 |
*熱膨張の注意点：カルレッツ®を高温使用される場合、熱膨張による体積増加を十分にご考慮ください。
カルレッツ®使用上の注意点：高温・高圧下の熱水・スチームに対して御使用の際は、
必ず弊社営業担当までお問い合わせください。
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プロセス
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温度範囲
|
使用条件
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推奨材質*
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コメント
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代表的
アプリケーション
|
|
プラズマ
ガス成膜
|
エッチング
アッシング
|
25−220℃
25−250℃
|
CF4/CHF3
SF6
BCl3/CCl4/O2
O2/O3/H2O
|
8575
8085
|
8575−エッチング、アッシング
アプリケーションに最適
8085−ＨＤＰ-ＣＶＤ/ＰＥ-ＣＶＤ
アプリケーションに最適
8002−酸素やフッ素プラズマでの
パーティクルを低減
|
稼動部：
・Gate valve
・Door
seal
・Lip seal
固定部：
・Chamber lid
・Electrode seal
･Lamp
seal
・Exhaust valve
・Gas inlet/outlet
・Window seal
・Center
ring
・Fittings, etc.
･De-gas chamber
搬送部：
・Wafer
・LCD
panel
・Conveyor,etc.
|
|
HDPCVD/PECVD
（高密度プラズマ
/プラズマCVD）
|
25−250℃
|
TEOS/O3
SiH4/O2
HCl/CF3/HBr
NF3/CF4/C2F6
|
8085
8002
|
|
PVD
（スパッタ）
MetalCVD
（メタルＣＶＤ）
Ｃｏｐｐｅｒ
（銅配線）
|
25−250℃
|
Ar
高真空
TEOS/O3
SiH4/O2
HCl/CF3/HBr
NF3/CF4/C2F6
WF6/CLF3
高真空
|
8575
8085
|
熱プロセス |
酸化/拡散
|
150−300℃
|
N2
O2
H2O
HCl
|
8475
4079
|
8475−熱プロセスのアプリケーシ
ョンに最適
4079−耐熱性に優れて、長期のシール性にも優れている |
・Quartz
chamber
seal
・Fittings
・Center ring
・Plenum seals |
|
LPCVD
(減圧CVD)
|
150−300℃
|
NH3
SiH2Cl2
HCl
|
|
Lamp
Anneal
RTP
(ランプアニール/
高速熱処理炉)
|
150−300℃
|
Resistance
to
lR absorption/
low outgassing
|
ウェット |
Wafer
Prep
Cleaning,
and Rinsing
|
25−125℃
|
UPDl,Piranha
SC-1,SC-2
HF(49％)
|
6375UP
4079
|
6375UP−ウェットプロセスに最適
4079−耐薬品性に優れている
1050LF−耐アミン性に優れている |
・Door/lid seals
・Drain
seals
・Seals for
chemical
containers
・Fittings
・Seals
for
filters/
connectors
・Flow meters |
|
エッチング
|
25−180℃
|
HNO3/HF/H2O
H3PO4/HNO3/
Acetic/H
2O
|
|
レジスト
塗布・現像
|
25−125℃
|
H2SO4+
Oxidant
Organic Acids
NaOH,TMAH
Xylene,nMP
|
|
レジスト剥離
|
25−125℃
|
nMP/Alkanolamine
Hydroxlamine
|
6375UP
1050LF
|
|
銅研磨
|
25−100℃
|
CuSO4Solution
H2SO4,
H2O2
UPDl, O3,
Citric Acid
|
6375UP
|
*上記以外の耐薬品性情報が必要な場合は、次のWEB
SITEよりchemical resistance Guideを参考にしてください。
www.dupont-dow.com/kalrez |
株式会社ハギテック : TEL 043-423-8741
